I nostri bersagli sputtering in tungsteno e molibdeno garantiscono un’elevata purezza e un’eccellente uniformità nella deposizione degli strati. Sono ideali per la produzione di film sottili nell’industria dei semiconduttori e dei rivestimenti.
Su richiesta, saremo lieti di fornirti informazioni dettagliate sulle specifiche e sulle proprietà dei nostri target di sputtering.